Im Rahmen des EFRE Projektes "Lithographie neu" wird für das Forschungszentrum Mikrotechnik ein Laser Lithographie System (LLS) als Ersatz für den installierten Mask Aligner beschafft.

Dies wird aus Mitteln des Europäischen Fonds für regionale Entwicklung kofinanziert. Damit werden drei Ziele verfolgt:

  • Aufgrund der zusätzlichen prozesstechnischen Möglichkeiten können neue Anwendungen auf den Gebieten der Bioanalytik, der optischen Telekommunikation und der Herstellung von diffraktiven optischen Elementen erschlossen werden. Damit verbunden können neue Projekte und Projektpartner akquiriert werden, kurzfristig im akademischen Bereich, mittelfristig auch in der Industrie.
  • Der Aufwand und die Kosten für die Erstellung und anschließende Optimierung von Strukturen werden signifikant reduziert. Die Herstellung von Masken als Urformen entfällt im Sinn von Industrie 4.0.
  • Die Kernkompetenz des FZMT in Lithographie kann weiter vertieft werden.

Nähere Informationen zu IWB/EFRE finden Sie auf www.efre.gv.at

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