MALS - Verfahren mit Maskalignern
Ziel dieses Projekts ist die Entwicklung und Optimierung von Simulationsverfahren zur Erforschung und Optimierung innovativer lithographischer Verfahren mit Maskalignern zur Herstellung von Mikrostrukturprodukten.
In diesem Projekt sollen Methoden zur präzisen Modellierung der optischen Abbildung, der Photolackprozesse und zur experimentellen Kalibrierung von Modellparametern entwickelt werden.
Inhalt des Projekts ist:
- Erstellen des physikalischen Modells zur Simulation (Fraunhofer IISB)
- Parametrisierung dieses Modells (FHV)
- Einbinden dieses Modells in eine benutzerfreundliche Software (GenISys)
- Validierung und Vergleich dieses Modells mit der Realität FHV, SUSS, Fraunhofer, GenISys
Förderprogramm
Teilweise Finanzierung durch die Bayrische Forschungsstiftung.
Projektpartner
Fraunhofer IISB, Erlangen Deutschland
GenISys GmbH, Taufkirchen, Deutschland
Suss MicroTec, Garching, Deutschland
