NILdirect_stamp - NanoImprintLithographie
NILdirect_stamp wird eine neue, leistungsfähige Technologie zur Strukturierung von Nanostrukturen für die NIL Stempelproduktion etablieren.
Das ambitionierte Ziel dieses Projektes ist die Entwicklung und Etablierung einer maskenlosen, photolack-freien Herstellungstechnologie für Master-Stempel für die Nanoimprint Lithography (NIL).
Förderprogramm
FFG Austrian Nano Initiative
Projektpartner
Austrian Research Centers GmbH, Wien, Österreich
EV Group, St. Florian/Inn, Österreich
IMS Nanofabrication AG, Wien, Österreich
Johannes Kepler Universität Linz, Linz, Österreich
Profactor Produktionsforschungs GmbH, Steyr-Gleink, Österreich
TU Wien, Institute for Solid State Electronics and center for Micro- and nanostructuring, Wien, Österreich
Weitere Informationen
http://www.nanoinitiative.at/evo/web/nano/1381_EN.51EC2B3360807
