Photolithografie
Photolithografie

Die optische Lithographie dient zur Herstellung und Übertragung von Mikrostrukturen von einer optischen Maske auf ein Trägermaterial.

Die optische Lithographie ist eine der wichtigsten Methoden zur Herstellung und Übertragung von Mikrostrukturen, bei dem ein auf einer Maske vorgegebenes Muster auf ein Trägermaterial übertragen wird. Dazu wird ein lichtsensitiver Photolack (Resist) auf das Trägermaterial (Substrat) aufgebracht und mittels UV-Licht durch die Maske belichtet. Aufgrund einer Veränderung der Vernetzung des Photolacks in den bestrahlten Bereichen kann in einem nachfolgenden Entwicklungsschritt ein selektives Lösen des Lackes erzielt werden. Strukturen aus Lacken mit unterschiedlichen Eigenschaften (hohe chem. Beständigkeit, leichte Löslichkeit, ...) und mit Schichtdicken von 100 nm bis zu einigen Millimetern sind möglich. Mehrschichtige, übereinander liegende Strukturen können ebenfalls erzeugt werden.

Serviceleistungen

Anwendungsgebiete

Lithographie Equipment

Kontaktperson aus dem Forschungszentrum Mikrotechnik

Stefan Partel

Dr. Stefan Partel
Lithographie und Lacktechnik

 +43 5572 792 7204
stefan.partel@fhv.at

Weitere Forschungsschwerpunkte des Forschungszentrums Mikrotechnik

Das Forschungszentrum Mikrotechnik an der FH Vorarlberg