Dornbirner Mikrotechniktage 2010
Die Dornbirner Mikrotechniktage finden 2010 zum fünften Mal statt. Sie haben traditionellerweise innovative Verfahren, anwendungsnahe Technologien und deren Umsetzung bei der Entwicklung neuer Produkte zum Thema. Entsprechend dieser thematischen Ausrichtung gibt es sowohl wissenschaftlich orientierte Vorträge als auch praxisnahe Beiträge von Firmen, welche die zunehmende Bedeutung mikrotechnischer Verfahren in vielen Bereichen der industriellen Wertschöpfung demonstrieren.
Als Beispiel sei die Beleuchtungsindustrie genannt: Das Volumen, in dem Licht erzeugt wird, wird durch die Verwendung von LED’s, z.B. gegenüber Leuchtstoffröhren, drastisch verkleinert. Dadurch ergibt sich eine Miniaturisierung vieler nachfolgenden Systemkomponenten mit den entsprechenden Anforderungen an die Fertigungstechnik.
Diese Veranstaltung stellt eine Plattform für den Wissens- und Erfahrungsaustausch zwischen Forschern, Ausstellern und Anwendern dar und bietet im Rahmen einer geselligen Abendveranstaltung die Möglichkeit Kontakte für gemeinsame Projekte zu knüpfen.
Dienstag, 8. Juni 2010
14:00 Uhr: Begrüßung
Fertigungstechnologien
14:05 Uhr
Optimization of illumination and mask layout for mask aligner lithography
Kristian Motzek, Fraunhofer Institute for Integrated Systems and Device Technology
14:30 Uhr
Die Herstellung von Mikrostrukturen mittels selektiver Laserablation mit ultrakurzen Laserpulsen und deep-UV Strahlquellen
Sandra Stroj, FH Vorarlberg
14:55 Uhr
Soft Imprint Lithographie von Mikrolinse
Marc Hennemeyer, SUSS MicroTec Lithography GmbH
15:20 Uhr
Injection molding of polymethylpentene for photonic applications: nanostructures and waveguides
Roman Bruck, AIT Austrian Institute of Technology GmbH
15:50 Uhr: Pause
16:20 Uhr
Picosecond laser structuring for the monolithic serial interconnection of CIS solar cells
Gerhard Heise, Laserzentrum der Hochschule München
16:55 Uhr
Laser scribing of organic solar cells
Jens Hänel, 3D-Micromac AG
17:20 Uhr
Industrielle „Haarspalterei“: mikrotechnologische Präzisions-Elektroformung
Gunnar Pasold, TRW Switzerland GmbH
17.45: Ende
19.00 Uhr: Abendveranstaltung
Mittwoch, 9. Juni 2010
9:00 Uhr: Opening
Photonik
9:05 Uhr
Die Miniaturisierung in der Beleuchtungstechnik
Klaus Vamberszky, Zumtobel Group
9:30 Uhr
Photonische Kristall-Resonatoren für Licht-Materiekopplung in hybriden Systemen
Nils Nüsse, Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH
9:55 Uhr
Passive Multimode-Lichtleiter-Funktionsstrukturen für Sensorik-Anwendungen
Johannes Kremmel, Interstaatliche Hochschule für Technik Buchs NTB
10.20: Pause
10:45 Uhr
Strukturierte optische Filterbeschichtungen
Philipp Büchel, Optics Balzers AG
11:10 Uhr
Optimierte Aufbau- und Verbindungstechnik großer Membranen für optische Anwendungen
Daniela Kögler, Hochschule Esslingen
11:35 Uhr: Mittagspause
MEMS
13:00 Uhr
Functional metallic layers for RF-applications
Wolfgang Tschanun, Reinhardt Microtech AG
13:25 Uhr
Experimental setup for the coating of chlorosilane based self assembling monolayers to reduce Stiction in MEMS devices
Harald Steiner, Österreichische Akademie der Wissenschaften
13:50 Uhr
Charakterisierung und Modellierung einer Hohlkathodenplasmaquelle
Marc Gubser, Interstaatliche Hochschule für Technik Buchs NTB
14:15 Uhr: Ende
EUR 200,00
EUR 150,00 für Alumnimitglieder
EUR 75,00 für Studierende
inkl. Abendveranstaltung
Für ReferentInnen entfällt die Tagungsgebühr.
Sie haben auch 2010 die Möglichkeit einen Präsentationsstand oder eine Posterwand für Firmenpräsentationen aufzustellen (Achtung: nur limitierte Anzahl).
Poster inkl. Konferenzgebühr (eine Person): EUR 300,00
Präsentationsstand inkl. Konferenzgebühr (eine Person): EUR 400,00
Hotel Sonne Garni (direkt bei der FH)
Hotel Krone (3 Minuten zu Fuß)
Hotel Bischof (5 Minuten zu Fuß)
