Sputtering ("Kathodenzerstäubung") ist ein Verfahren zur PVD - Beschichtung von Substraten im Vakuum.

Bei diesem Verfahren wird das zu zerstäubende Material in Form eines „Targets“ ins Vakuum gebracht. In der Prozesskammer wird ein Argonplasma gezündet, wobei das Target als Anode dieser Entladung geschaltet ist. Durch den sich ergebenden, intensiven Beschuss der Targetoberfläche mit Argonionen wird das Targetmaterial zerstäubt und kondensiert auf den in der Kammer befindlichen Substraten. Ein wesentlicher Vorteil beim Sputtering ist die Möglichkeit, Substrate bei niedrigen Prozesstemperaturen zu beschichten.

Beschichtungssystem am FZMT

Serviceleistungen

Anwendungsgebiete

Kontaktperson aus dem Forschungszentrum Mikrotechnik

Stephan Kasemann

Dr. Stephan Kasemann
PVD - Beschichtung und Trockenätzen

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stephan.kasemann@fhv.at

Weitere Forschungsschwerpunkte des Forschungszentrums Mikrotechnik

Das Forschungszentrum Mikrotechnik an der FH Vorarlberg